CHO-SHIELD?2056是一種導(dǎo)電的單組分銀和銀/特別是銅填充丙烯酸涂料配方用于塑料提供高水平的EMI屏蔽。
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CHO-SHIELD?2056是一種導(dǎo)電的單組分銀和銀/特別是銅填充丙烯酸涂料配方用于塑料提供高水平的EMI屏蔽。
CHO-SHIELD 2056是醫(yī)療電子外殼和組件的理想選擇它們需要高水平,可靠的EMI屏蔽性能,并且可能會(huì)受益于銀的抗菌特性。 優(yōu)秀的涂層的電導(dǎo)率允許用于更薄的涂層,節(jié)省時(shí)間和加工中的錢。 較薄的涂層極限由于噴涂過(guò)多而造成材料浪費(fèi),并減少了掩模清洗步驟的頻率。
符合UL 746-C粘合規(guī)范。CHO-SHIELD 2056導(dǎo)電涂料是適用于各種應(yīng)用,包括:
? 高級(jí)別的EMI屏蔽(請(qǐng)參閱屏蔽效果曲線圖(1)
? 防靜電保護(hù)
? 表面接地
? ABS,PC / ABS和許多其他涂層塑料外殼的類型
二、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)
? 一個(gè)組件
? 熱塑性丙烯酸
? 銀/銅和銀片填料
? 出色的導(dǎo)電性和EMI屏蔽。 成本電子外殼的有效解決方案需要高EMI的組件屏蔽和導(dǎo)電性。
? 優(yōu)異的流平性,濕潤(rùn)性和平滑地覆蓋表面
? 在干薄膜上提供良好的覆蓋厚度最小化材料成本并減少涂料循環(huán)時(shí)間。
? 易于使用。 CHO-SHIELD 2056準(zhǔn)備好了與簡(jiǎn)單的混合使用。 可以與標(biāo)準(zhǔn)噴涂設(shè)備,不貴需要基本設(shè)備。
? 材料在室溫下干燥-不高需要溫度固化烤箱,快速吞吐量。 良好的附著力塑料。
應(yīng)用
一、推薦的準(zhǔn)備
1.清潔基材:基材表面應(yīng)清潔,干燥且無(wú)油,脫模劑,污垢和皮棉。
2.混合材料:在油漆攪拌器上充分混合材料(一加侖的罐子通常為1分鐘)。或者,用大鍋鏟手工攪拌直到所有固體均質(zhì)懸掛。檢查沒(méi)有混在一起材料保留在底部和容器的側(cè)面。
3.可選:應(yīng)變材料減少或消除潛力堵塞噴嘴。的整個(gè)過(guò)程可能使油漆緊張篩網(wǎng)(1000微米)平面過(guò)濾器成噴霧壓力罐。所有金屬填充物應(yīng)該轉(zhuǎn)移,盡管很小過(guò)濾器中可能會(huì)收集到大量的填料團(tuán)。
可選的細(xì)化:
可以完成標(biāo)準(zhǔn)的細(xì)化用MEK(甲乙酮)溶劑。
在潮濕的日子(相對(duì)濕度> 50%,溫度> 30°C / 85°F),用正丁醇加起來(lái)每加侖油漆8液量盎司消除臉紅(干燥表面)。
二、流體輸送系統(tǒng)
使用壓力鍋(15 psi,103 kPa,直徑大的槳式攪拌器,攪拌速度低至使金屬填料均勻懸浮。
常規(guī)噴涂設(shè)備,例如HVLP(高容量,低壓)或帶有螺旋槳式攪拌器壓力罐的DeVilbiss EGA 503可用于噴涂約20-50的應(yīng)用psi(138-345 kPa)霧化空氣。 采用可能的最低壓力。
涂料從通過(guò)噴槍攪拌鍋和建議通過(guò)泵輸送系統(tǒng)返回,以提高填料均勻性。
對(duì)于大批量應(yīng)用,機(jī)器人帶有HLVP噴槍的噴霧系統(tǒng)應(yīng)該用于最大程度地減少材料損失由于噴涂過(guò)多和涂料最大化轉(zhuǎn)移效率。 虹吸飼料設(shè)備可用于小型或原型運(yùn)行。
三、噴槍和壓力
使用標(biāo)準(zhǔn)的HVLP噴槍約20-40 psi(138-276 kPa)霧化空氣。
具有最小孔口直徑的流體噴嘴建議使用0.040(1.016)的表頭。為了獲得最大的附著力和導(dǎo)電性,應(yīng)避免干噴。調(diào)節(jié)噴霧壓力以達(dá)到涂上適量的濕膜時(shí),導(dǎo)電涂料。
四、標(biāo)稱干膜厚度
名義干膜厚度為0.001建議使用英寸(25 μm,1 mil)獲得> 75 dB的屏蔽效果從80 MHz到18 GHz 但是,更薄或更厚的外套是可以接受的取決于屏蔽要求被保護(hù)設(shè)備的數(shù)量。
讓物料在10到20分鐘的溫度下干燥大衣之間的室溫避免溶劑夾帶。
五、干燥條件
1.在室溫下干燥10-20分鐘。
2.繼續(xù)在處干燥30分鐘65°C±5.5°C(150°F±10°F)0.001英寸(25 μm,1 mil)厚度。
如果較厚的薄膜干燥更長(zhǎng),如果更短則干燥薄膜更薄,達(dá)到理想電導(dǎo)率。
注意:在室溫下干燥24小時(shí)將達(dá)到類似性能。
六、清理
噴霧系統(tǒng),包括噴霧槍,攪拌鍋和容器罐用MEK或丙酮(VOC)清潔豁免溶劑)。 面罩可以用Challenge 485S隔離膜強(qiáng)力清洗涂層。
七、儲(chǔ)存和處理
應(yīng)存放CHO-SHIELD 2056在10oC到30oC(50oF到86oF)的溫度范圍內(nèi)自保存之日起12個(gè)月的保質(zhì)期在原始密封中制造容器。 CHO-SHIELD 2056是可燃液體。 請(qǐng)咨詢正確的材料安全數(shù)據(jù)表使用前的處理程序。
CHO-SHIELD 2056典型屏蔽效果PER CHO-TM-TP11 *
CHO-SHIELD 2056 | ||
典型特性 | 典型值 | 測(cè)試方法 |
聚合物 | 亞克力 | N/A |
填料 | 鍍銀銅和純銀 | N/A |
混合比(A:B重量比) | 1部分 | N/A |
顏色 | 銅 | N/A (Q) |
噴霧粘度 | 14至20秒 | 扎恩杯2號(hào) (Q) |
表面電阻(最大)在0.001英寸(25 pm,1 mil) | <= 0.030歐姆/平方 | CEPS-0002 (Q/C) |
屏蔽效果(見圖1) | > 75分貝 | CHO-TM-TP11* (Q) |
推薦干膜厚度 | .001英寸(下午25點(diǎn)) | N/A |
濕密度 | 1.1 | ASTM D792 (Q/C) |
平均固體(重量) | 32% | 已計(jì)算 (Q) |
連續(xù)使用溫度 | -40至85°C(-40至185°F) | N/A (Q) |
適用期 | 不限 | N/A (Q) |
干燥時(shí)間-室溫?zé)o粘性 | 0.5小時(shí)@ 21°C(70°F) | N/A |
干燥時(shí)間-室溫充分干燥 | 24小時(shí)@ 21°C(70°F) | N/A |
干燥時(shí)間-高溫完全干燥 | 在21°C(70°F)下0.25小時(shí),然后在66°C(150°F)下0.5小時(shí) | N/A |
自生產(chǎn)日期起未開封的21°C(70°F)的貨架壽命 | 12個(gè)月 | N/A (Q) |
計(jì)算的VOC | 718克/升 | 已計(jì)算 |
推薦干膜厚度下的理論覆蓋率 | 0.062平方英尺/克0.019平方米/克260平方英尺/加侖 | N/A |