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CHO-SHIELD?2056,派克固美麗Parker Chomerics

CHO-SHIELD?2056是一種導(dǎo)電的單組分銀和銀/特別是銅填充丙烯酸涂料配方用于塑料提供高水平的EMI屏蔽。

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一、客戶價(jià)值主張

CHO-SHIELD?2056是一種導(dǎo)電的單組分銀和銀/特別是銅填充丙烯酸涂料配方用于塑料提供高水平的EMI屏蔽。

CHO-SHIELD 2056是醫(yī)療電子外殼和組件的理想選擇它們需要高水平,可靠的EMI屏蔽性能,并且可能會(huì)受益于銀的抗菌特性。 優(yōu)秀的涂層的電導(dǎo)率允許用于更薄的涂層,節(jié)省時(shí)間和加工中的錢。 較薄的涂層極限由于噴涂過(guò)多而造成材料浪費(fèi),并減少了掩模清洗步驟的頻率。

符合UL 746-C粘合規(guī)范。CHO-SHIELD 2056導(dǎo)電涂料是適用于各種應(yīng)用,包括:

? 高級(jí)別的EMI屏蔽(請(qǐng)參閱屏蔽效果曲線圖(1)

? 防靜電保護(hù)

? 表面接地

? ABS,PC / ABS和許多其他涂層塑料外殼的類型


二、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)

? 一個(gè)組件

? 熱塑性丙烯酸

? 銀/銅和銀片填料

? 出色的導(dǎo)電性和EMI屏蔽。 成本電子外殼的有效解決方案需要高EMI的組件屏蔽和導(dǎo)電性。

? 優(yōu)異的流平性,濕潤(rùn)性和平滑地覆蓋表面

? 在干薄膜上提供良好的覆蓋厚度最小化材料成本并減少涂料循環(huán)時(shí)間。

? 易于使用。 CHO-SHIELD 2056準(zhǔn)備好了與簡(jiǎn)單的混合使用。 可以與標(biāo)準(zhǔn)噴涂設(shè)備,不貴需要基本設(shè)備。

? 材料在室溫下干燥-不高需要溫度固化烤箱,快速吞吐量。 良好的附著力塑料。



應(yīng)用


一、推薦的準(zhǔn)備

1.清潔基材:基材表面應(yīng)清潔,干燥且無(wú)油,脫模劑,污垢和皮棉。

2.混合材料:在油漆攪拌器上充分混合材料(一加侖的罐子通常為1分鐘)。或者,用大鍋鏟手工攪拌直到所有固體均質(zhì)懸掛。檢查沒(méi)有混在一起材料保留在底部和容器的側(cè)面。

3.可選:應(yīng)變材料減少或消除潛力堵塞噴嘴。的整個(gè)過(guò)程可能使油漆緊張篩網(wǎng)(1000微米)平面過(guò)濾器成噴霧壓力罐。所有金屬填充物應(yīng)該轉(zhuǎn)移,盡管很小過(guò)濾器中可能會(huì)收集到大量的填料團(tuán)。

可選的細(xì)化:

可以完成標(biāo)準(zhǔn)的細(xì)化用MEK(甲乙酮)溶劑。

在潮濕的日子(相對(duì)濕度> 50%,溫度> 30°C / 85°F),用正丁醇加起來(lái)每加侖油漆8液量盎司消除臉紅(干燥表面)。


二、流體輸送系統(tǒng)

使用壓力鍋(15 psi,103 kPa,直徑大的槳式攪拌器,攪拌速度低至使金屬填料均勻懸浮。

常規(guī)噴涂設(shè)備,例如HVLP(高容量,低壓)或帶有螺旋槳式攪拌器壓力罐的DeVilbiss EGA 503可用于噴涂約20-50的應(yīng)用psi(138-345 kPa)霧化空氣。 采用可能的最低壓力。

涂料從通過(guò)噴槍攪拌鍋和建議通過(guò)泵輸送系統(tǒng)返回,以提高填料均勻性。

對(duì)于大批量應(yīng)用,機(jī)器人帶有HLVP噴槍的噴霧系統(tǒng)應(yīng)該用于最大程度地減少材料損失由于噴涂過(guò)多和涂料最大化轉(zhuǎn)移效率。 虹吸飼料設(shè)備可用于小型或原型運(yùn)行。


三、噴槍和壓力

使用標(biāo)準(zhǔn)的HVLP噴槍約20-40 psi(138-276 kPa)霧化空氣。

具有最小孔口直徑的流體噴嘴建議使用0.040(1.016)的表頭。為了獲得最大的附著力和導(dǎo)電性,應(yīng)避免干噴。調(diào)節(jié)噴霧壓力以達(dá)到涂上適量的濕膜時(shí),導(dǎo)電涂料。


四、標(biāo)稱干膜厚度

名義干膜厚度為0.001建議使用英寸(25 μm,1 mil)獲得> 75 dB的屏蔽效果從80 MHz到18 GHz 但是,更薄或更厚的外套是可以接受的取決于屏蔽要求被保護(hù)設(shè)備的數(shù)量。

讓物料在10到20分鐘的溫度下干燥大衣之間的室溫避免溶劑夾帶。


五、干燥條件

1.在室溫下干燥10-20分鐘。

2.繼續(xù)在處干燥30分鐘65°C±5.5°C(150°F±10°F)0.001英寸(25 μm,1 mil)厚度。

如果較厚的薄膜干燥更長(zhǎng),如果更短則干燥薄膜更薄,達(dá)到理想電導(dǎo)率。

注意:在室溫下干燥24小時(shí)將達(dá)到類似性能。


六、清理

噴霧系統(tǒng),包括噴霧槍,攪拌鍋和容器罐用MEK或丙酮(VOC)清潔豁免溶劑)。 面罩可以用Challenge 485S隔離膜強(qiáng)力清洗涂層。


七、儲(chǔ)存和處理

應(yīng)存放CHO-SHIELD 2056在10oC到30oC(50oF到86oF)的溫度范圍內(nèi)自保存之日起12個(gè)月的保質(zhì)期在原始密封中制造容器。 CHO-SHIELD 2056是可燃液體。 請(qǐng)咨詢正確的材料安全數(shù)據(jù)表使用前的處理程序。



CHO-SHIELD 2056典型屏蔽效果PER CHO-TM-TP11 *


image.png


CHO-SHIELD 2056

典型特性

典型值

測(cè)試方法

聚合物

亞克力

N/A

填料

鍍銀銅和純銀

N/A

混合比(A:B重量比)

1部分

N/A

顏色

N/A              (Q)

噴霧粘度

14至20秒

扎恩杯2號(hào)    (Q)

表面電阻(最大)在0.001英寸(25 pm,1 mil)

<= 0.030歐姆/平方

CEPS-0002           (Q/C)

屏蔽效果(見圖1)

> 75分貝

CHO-TM-TP11*         (Q)

推薦干膜厚度

.001英寸(下午25點(diǎn))

N/A

濕密度

1.1

ASTM D792          (Q/C)

平均固體(重量)

32%

已計(jì)算         (Q)

連續(xù)使用溫度

-40至85°C(-40至185°F)

N/A                (Q)

適用期

不限

N/A              (Q)

干燥時(shí)間-室溫?zé)o粘性

0.5小時(shí)@ 21°C(70°F)

N/A

干燥時(shí)間-室溫充分干燥

24小時(shí)@ 21°C(70°F)

N/A

干燥時(shí)間-高溫完全干燥

在21°C(70°F)下0.25小時(shí),然后在66°C(150°F)下0.5小時(shí)

N/A

自生產(chǎn)日期起未開封的21°C(70°F)的貨架壽命

12個(gè)月

N/A                (Q)

計(jì)算的VOC

718克/升

已計(jì)算

推薦干膜厚度下的理論覆蓋率

0.062平方英尺/克0.019平方米/克260平方英尺/加侖

N/A


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